為什么氨逃逸必須要小于10ppm？

    氨逃逸的正?？刂浦狄罁?jù)不同的脫硝工藝和技術(shù)有不同的標(biāo)準(zhǔn)。普遍來(lái)看：

    -對(duì)于SNCR（選擇性非催化還原）脫硝技術(shù)，氨逃逸的標(biāo)準(zhǔn)一般不高于8mg/m³（或10ppm）。

    -對(duì)于SCR（選擇性催化還原）脫硝技術(shù)，氨逃逸的標(biāo)準(zhǔn)更為嚴(yán)格，一般要求控制在2.5mg/m³（或3ppm）以內(nèi)。

    在實(shí)際運(yùn)行中，機(jī)組正常運(yùn)行時(shí)氨逃逸的數(shù)值一般維持在0~1.0mg/m³之間，常見(jiàn)范圍是0.3~0.8mg/m³，并且偶爾出現(xiàn)超出1.0mg/m³甚至達(dá)到2.0mg/m³的情況也被視為正常的數(shù)據(jù)波動(dòng)。盡管如此，最佳實(shí)踐是盡量將氨逃逸水平控制在較低的范圍內(nèi)，以減少對(duì)環(huán)境的影響和設(shè)備的潛在損害，尤其是對(duì)于SCR系統(tǒng)，目標(biāo)是不超過(guò)3ppm。